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PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY

PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY

等離子體源科學與技術

期刊周期:Bimonthly
研究方向:物理
影響因子:4.128
通訊地址:IOP PUBLISHING LTD, DIRAC HOUSE, TEMPLE BACK, BRISTOL, ENGLAND, BS1 6BE
官網(wǎng):http://iopscience.iop.org/0963-0252/
投稿地址:http://mc04.manuscriptcentral.com/psst-iop
審稿速度:約6.0個月

  中文簡介

等離子體源科學與技術(PSST)報告了低溫等離子體和電離氣體在各種氣體壓力和等離子體密度范圍內以不同程度的電離作用運行的情況。PSST的重點是這些等離子體的基礎科學,它們的來源,以及通過理論、計算或實驗技術闡明的由它們引發(fā)或維持的物理和化學過程。PSST還報告了研究低溫等離子體所需的新的實驗或理論推導的基本數(shù)據(jù)(例如截面、輸運系數(shù))。有關這些等離子體的技術和應用的報道應與等離子體狀態(tài)下發(fā)生的科學和基本過程密切相關。

  英文簡介

Plasma Sources Science and Technology (PSST) reports on low-temperature plasmas and ionized gases operating over all ranges of gas pressure and plasma density, with varying degrees of ionization. The emphasis of PSST is on the fundamental science of these plasmas, their sources and the physical and chemical processes initiated or sustained by them, as elucidated through theoretical, computational or experimental techniques. PSST also reports on new experimentally or theoretically derived fundamental data (e.g. cross sections, transport coefficients) required for investigation of low temperature plasmas. Reports that relate to the technology and applications of these plasmas should be closely linked to the science and fundamental processes occurring in the plasma state.

  近年期刊影響因子趨勢圖

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