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APPLIED SPECTROSCOPY REVIEWS

APPLIED SPECTROSCOPY REVIEWS

應用光譜學評論

期刊周期:Tri-annual
研究方向:工程技術
影響因子:2.888
通訊地址:TAYLOR & FRANCIS INC, 325 CHESTNUT ST, SUITE 800, PHILADELPHIA, USA, PA, 19106
官網:http://www.tandfonline.com/toc/laps20/current
投稿地址:http://www.tandfonline.com/toc/laps20/current
審稿速度:約1.0個月

  中文簡介

應用光譜學綜述提供了光譜學所有不同分支的原理、方法和應用的最新信息,從x射線、紅外、拉曼光譜、原子吸收和ESR到微波、質量、NQR、NMR和ICP。這是一本國際性的、單一來源的雜志,為化學家、物理學家和其他使用光譜技術的科學家提供了有關物理概念與化學應用的討論。

  英文簡介

Applied Spectroscopy Reviews provides the latest information on the principles, methods, and applications of all the diverse branches of spectroscopy, from X-ray, infrared, Raman, atomic absorption, and ESR to microwave, mass, NQR, NMR, and ICP. This international, single-source journal presents discussions that relate physical concepts to chemical applications for chemists, physicists, and other scientists using spectroscopic techniques.

  近年期刊影響因子趨勢圖

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